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    功率放大器外文翻译---应用于功率放大器的过压保护电路

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    功率放大器外文翻译---应用于功率放大器的过压保护电路

    1、PDF外文:http:/   1 外文翻译:  应用于功率放大器的过压保护电路       原文来源: Electronics, Circuits and Systems 15th IEEE International Conference ,2008  ICECS 2008:161-164     译文正文:  摘要  随着移动通信设备对更高集成度和更低成本的需求的增加,使用 CMOS 功率放大器来代替 GaAs 或者 SiGe 功率放大器的趋势 越来越大 。虽然目前 CMOS 价格相对比较低

    2、廉,但是其射频性能存在劣势,而且还有低的击穿电压。这个问题特别体现在 PA 的输出级,当负载不匹配是,导致高电压驻波比( VSWR)并在 PA 输出高峰峰值电压。本文在 0.13mm CMOS 工艺下设计了一个  27dBm PA,包括 VSWR保护电路。一个控制回路检测在 PA 输出端的高电压振幅尖峰以降低 PA 的增益,从而降低输出电压摆幅达到理想值。  1、引言  功率放大器是每个射频发射机的最重要部分之一。大多数功率放大器是基于 SiGe 或 GaAs 工艺技术,而收发器和基带电路更加倾向于使用低成本的标准 CMOS 技术。 CMOS PA 可以使得整个完

    3、整的无线电系统集成在单个芯片中,这对于成本和面积的减少是相当 可观的。虽然 CMOS PA 的设计是一个非常大的挑战,但是现代深亚微米 CMOS 工艺的性能接近 SiGe 或 GaAs PA 更加具有吸引力。一个主要的问题是将在所有可能的情况之下保证可靠的操作。如果负载失配时,在 PA 输出端将导致高的VSWR,这个问题对于标准 CMOS 晶体管的低击穿电压非常重要。  本文提出了一种用于 CMOS 功率放大器的 VSWR 保护电路。该电路另外设计附加在一个输出功率为 27 dBm 的两级差分功率放大器中。这个 PA 的设计是为了集成在 DECT 电话芯片中,和参考文献 1类似。 P

    4、A 的设计细节和测试结果参照文献 2。  本文结果如下:首先简单介绍了 PA 的非理想影响。第三部分介绍了可能的解决方案。第四部分给出了 PA 的整体结果和设计。接着对 VSWR 保护电路做了详细的介绍,最后给出了测试和仿真结果。  2、 PA 的非理想因素  CMOS PA 的可靠性问题主要包括三个方面:  由于热载流子效应,模拟 CMOS 电路的 RF 性能会退化 3。当漏极电场强度高时,沟道电子将对Si-SiO2 表层产生破坏,从而出现热载流子效应。这将导致 MOSFET 的开启电压增大使得跨导降低。  电迁移通常是指在电场的作用下导电离

    5、子运动造成元件或电路失效的现象。 它可能会导致线路空隙,甚至差距,导致了芯片的破坏。电迁移是一个问题,尤其是当大的直流电流密度存在同一个线路中。  最后, CMOS 晶体管的一个致命威胁是栅氧化层或 PN 结暴露在过高的电压下会直接被击穿。 0.13 m 工艺的栅级击穿电压根据晶体管的种类在 4.5V8.5V 之间。 PN 结的反向击穿电压约为 7V。  3、天线上负载失配造成的过高电压  天线上负载失配导致传输信号的反射从而形成驻波。反射波的幅度和相位可以通过反射因子 来度量。如果传输信号幅度为 Vf,则驻波的最大幅度为 Vmax =Vf( 1 + | |)。因

    6、此在负载 失配严本科毕业论文(设计)外文翻译   2 重时,驻波幅度可以达到传输信号幅度的 2 倍。负载失配可以通过驻波比( VSWR)来反应, VSWR 是驻波最大电压与最小电压的比值。  A驻波比  高电压驻波会加速 PA 电迁移的长期退化和热载流子效应,甚至会立即导致晶体管的击穿。一种办法,应付 CMOS 晶体管击穿的问题是要面对它的工艺水平,融入标准 CMOS 高电压兼容的晶体管。这些设备的制造过程中就必须增加额外的步骤和手段,此外,这些射频晶体管的性能一般低于标准的晶体管。最后,很多半导体公司“无生产线,并在独立半导体铸造厂制作。  因此,有希

    7、望进行替代解决在线路水平上 的问题,电压反馈电路,以避免线路老化,该电路只适用双极晶体管,不适合用于 CMOS 功率放大器。  这项工作提出了一个用于 CMOS 功率放大器的保护电路。这感觉在 PA 的开路漏极输出高电压和动态降低偏置和增益放大阶段。基本概念和 6相似,但实施是不同的。两个主要组成部分,过压检测器和偏置调节,将在未来章节中讨论。  驻波比保护提出功率放大器包括一个两个阶段 AB 类功率放大器的核心和输出电压控制回路。一个系统的框图如图 1 所示控制回路的电压摆幅放大器在第二阶段的产出。如果输出摆幅在一定条件下驻波或过于高电源电压,偏置,因此 放大器的增益受限

    8、制降低,重新建立输出摆幅。  差分功率放大器需要单端转换。除芯片以外的所有 CMOS 采用 13 微米工艺。                    图 1 设计功率放大器的核心  这两个阶段的核心采用的是功放大器级间和输入的匹配,结构是众所周知的,特别是对双极型器件功率放大器,电路图如图 2 差分设计采用了虚拟平面,导致了良好的偶次谐波取消,该差分结构,尤其是一个重要的单片机发器,因为它减少了大功率放大器的干扰信号和其他组成部分。  通过对变压器磁耦合器,放大器耦合

    9、被电隔离。所以偏置可设定为两个阶段。正如图中可 以看出。  2 电流于偏置,利用变压器中心抽头。谐振需要调整,以减少输入和输出变压器在作方面的  费用微调电容 C1 和 C2 被添加到匹配的网络,实现了 1.9 GHz 的工作频率共振。  通过不同的转化率以及变压器的大小,一个良好的级间匹配和输入匹配被发现。  尽管如此  通过电容晶体管的空间是有限的,此问题是更比双极型器件的 CMOS 严重,获取更高的频率更差。  功率放大器是专为集成到一个单芯片的 DECT 收发器,它是在两个电池供电下工作,功率放大器直接连接电池,两个串联的镍氢

    10、电池的电压是 2。 5V。当电池充电时,电原电压在很短时间 内可达到 3.6V,早先提交了一份输出功率 0.13 微米的 CMOS 功率放大器具有良好的性能,已高于 1.2 V 的低电源电压的可靠性问题。因此,除了保护电路的驻波,重点放在已经意识到的可行性设计和功率放大器的核心布局。  本科毕业论文(设计)外文翻译   3                      图 2 B 输出匹配和差分至单端转换  负载阻抗变换和差分到单端转换被微型 LC 利用。差分

    11、负载阻抗功率放大器输出转变的是相同的频率,它是由高次谐波的不平等。因此,在不同峰值电压漏输出驻波比时,可能会有所不同应用条件。因此,有必要监测与过压检测器都漏输出的峰值电压  C: 过电压检测 : 对于过电压检测电路如图 3 它由 n 个二极管链和一个并联电阻电容组成。在最后节点射频射出二极管链是连接到功率放大器漏极输出节点。在正常运作的二极管的电压 NVknee 总和大于最大漏极电压摆幅较大。因此,输出电压不加载和功率放大器的表现也没有变差。如果在驻波比情况下,PA 的峰值输出电压超过 nVknee,通过二极管链和电容器的电流。电压 Vcontrol,这是用来控制偏压,上升到 Vc

    12、ontrol = VRFout - nVknee。高阻抗并联电阻必须履行的驻波条件,允许功率放大器返回正常状态。或 者到一个高阻抗低偏置电阻器使用,有可能节省芯片面积。  很显然,采用二极管连接的 PMOS 晶体管,用晶体管代替二极管是不可能的。一个二极管连接的晶体管的漏极电压低于大部分电压,从而导致二极管反向偏置。因此,可能破坏晶体管。                  图 3 D: 动态偏置调节  电压是用来调节放大器的偏置点阶段,一是让简单的电流是在功率放大器偏置在图 2 中使用。让扩大路  在图 4 中展示出来,  


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